Комплекс включает в себя две основные части. Первая представляет собой промышленный образец установки для безмасочной нанолитографии. Вторая – представлена промышленным образцом установки для плазмохимического травления кремния. Создание этого комплекса способствует решению вопросов технологической независимости России в области микроэлектроники.
Первый этап в создании наноструктур – литографический процесс, который выполняется на импортном оборудовании. Данный этап требует значительных финансовых ресурсов и времени. В связи с этим учёные из Санкт-Петербурга предложили другой метод, заключающийся в использовании технологии безмасочной нанолитографии. Этот метод позволяет получать изображение на подложке без использования шаблона или маски, что делает его более эффективным и экономически выгодным.
Учёные предполагают, что стоимость данной отечественной разработки составит приблизительно 5 миллионов рублей, что существенно дешевле, чем затраты на приобретение импортного оборудования, оцениваемое в 10-13 миллиардов рублей.
Для корректной работы прибора, эксперты создали специализированное программное обеспечение. Устройство полностью автоматизировано, и в настоящее время учёные дорабатывают ПО, добавляя систему обратной связи, чтобы уменьшить влияние человеческого фактора в процессе эксплуатации.
Второй этап формирования наноструктур заключается в процессе, называемом плазмохимическим травлением, который выполняется на основе рисунка, полученного на первом этапе. Помимо создания наноструктур, данная установка также способна производить кремниевые мембраны, предназначенные для использования в судовых датчиках избыточного давления.
Специалисты намерены внедрить технологии машинного обучения в обе установки и сосредоточиться на разработке технологий для силовой электроники.
